NVIDIA TSMCの0.11μプロセスを正式に採用

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  NVIDIAは、今後投入するGPUの製造にTSMCの0.11μプロセス技術を採用すると発表した。NVIDIAでは、TSMCの0.11μプロセスと自社の設計技術を組み合わせることで、高性能且つ低消費電力なグラフィックスチップを提供していくとされる。TSMCの0.11μプロセス技術は、基本的に同社の0.13μプロセスを光学的に縮小したもの。このプロセスではフッ化ケイ酸塩ガラス (FSG) ベースの誘電素材を用い、ハイパフォーマンス向けから一般向けとなる製品が製造されることになる。歩留まりは既に製品を製造可能な段階に達しているとされ、現時点では低電圧版チップの量産を立ち上げているという。広範囲用途での0.11μプロセスは2005年Q1に製造に入ると見られている。

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