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Intel 90nmプロセッサ情報
IntelはPrescottやDothanと、これらが採用する90nmプロセスについて、これまでのプロセス技術と比べ急速に歩留まりが改善していることを示すなどの最新情報を公表したようだ。これによると、Prescottは1億2,500万トランジスタにより構成され、ダイサイズは112sqmmになるという。Prescottでは1MBのL2キャッシュを実装するため、トランジスタ数は現行Northwoodの5,500万個から倍増するが、ダイサイズに関しては136sqmmから縮小している。一方、Dothanについてはトランジスタ数が明かされていないもののダイサイズは2MB L2を実装する割に小さく、87sqmmとしているという。また、90nm世代の動作電圧が1.2Vになるというチャートも示されたようだ。
製造プロセス関連では、Intelは2005年より65nmプロセスによる300mmウェハーの製造を開始するとしている。また2007年の45nmプロセス向けとしてTri-gateトランジスタなどの開発を進めているほか、2009年の32nm、2011年予定の22nmプロセストランジスタのプロトタイプも開発しているとされる。22nmプロセスでは、ゲート長は10nmにまで縮小することになるという。
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