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Intel リソグラフィロードマップを変更 Intelはチップ製造における長期的なプランを変更、波長157-nmの装置導入を取りやめるようだ。Intelはこれまで、2007年に計画している45nmプロセスでの製造に193-nmと157-nmのスキャナを用いる方針としていたが、技術上の問題から157-nm装置の導入は行われないことになるという。Intelではその代わり、193-nmスキャナを拡張して90nm、65nmと45nmプロセス技術に対応させると言われている。新たなロードマップでは、2003年の90nm、2005年に予定されている65nm、2007年の45nmには193-nmスキャナが使用され、2009年に計画されている32nmには今のところEUV (極紫外線) の使用が有力とされているようだ。 Source: SiliconStrategies
May 23, 2003 | ||